項目名
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概略説明 |
赤外線レーザーマーカー
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CO2
| CO2をはじめYAG、YVO4、ファイバーレーザー、LDなどの赤外線レーザー発振器とガルバノミラー・ｆθレンズが組み合わされた光学系で構成されています。低出力なCO2レーザーを搭載したモデルはコンパクトで低価格が特徴です。マーキングシステムの中でも最も汎用的に利用されており、ほとんどのマーキングはこの赤外線（IR）のシステムが利用されています。海外メーカーも多く存在しており、ここでは国内メーカーと海外メーカーを取り扱う企業を紹介しております。 |
| YAG |
| YVO4 |
| ファイバー |
| LD |
可視光レーザーマーカー |
YAGレーザーやYVO4レーザーの第2高長波（532nm）の固体レーザーに赤外線マーカー同様ガルバノミラー・ｆθレンズが組み合わされた構成のマーカーです。赤外線（IR）では困難であった金メッキ製品や銅製品への鮮明なマーキングが可能になります。また可視光のレーザーを搭載している利点として、ガラスやアクリルなどの透明材へのインナーマーキングが可能になります。 |
紫外線レーザーマーカー |
YAGレーザーの第3高長波（355nm）の固体レーザーに赤外線マーカー同様ガルバノミラー・ｆθレンズが組み合わされた構成のマーカーです。過去にはエキシマレーザーも存在しましたが、最近では特殊な用途を除いて固体レーザーが搭載されています。樹脂の種類によっては改質による変色マーキングが可能で、他のレーザーではできない材質へのマーキングが可能です。 |
短パルスレーザーマーカー |
短パルスの固体レーザーにXYステージを組み合わせた汎用機としての装置となっています。電子部品やガラスなどへの超微細マーキングが目的とされていますが、装置価格が高価なため研究用としての利用がメインとなっております。従来のナノ秒レーザーではマーキングできなかった材料へのマーキングや高品質なマーキングが可能になっています。
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ウエハマーキング |
可視光レーザーマーキング同様、YAGレーザーやYVO4レーザーのの第2高長波（532nm）の固体レーザーにガルバノミラー・ｆθレンズが組み合わされた構成のマーカーです。ウエハーのシリアル管理やロット管理を行うためウエハーのエッジなどデバイスに影響のない場所にマーキングを行います。小型汎用・研究機やカセットtoカセットの専用システムまで用途や目的に応じラインナップされています。 |
レーザー彫刻機 |
レーザーマーキングの中でも深掘りと言われる装置がレーザー彫刻機です。レーザー彫刻機はレーザープロッターと呼ばれる場合もあります。加工ヘッドがXYに移動するタイプの装置なのでガルバノミラー・fθを使用するレーザーマーカーよりも広範囲を加工できる製品が多く存在します。レーザー彫刻機の多くはCO2レーザーを搭載していますがYAGレーザーを搭載している製品もあります。 |
